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美國“9.11國家紀念館”公布最新的設計細節
據9月11日報道,紐約和世界各地紀念“9.11事件”8周年之際,關(guān)于“9.11國家紀念館”最新方案的圖片公布于眾。Davis Brody Bond Aedas的合伙人Steven Davis參加了紀念活動(dòng)并宣布了更新后的設計。位于曼哈頓Vesey街20號的紀念地預展在8月24日向公眾開(kāi)放,展示了紀念館的渲染圖和模型等。紀念館坐落在8英畝的紀念廣場(chǎng)之上,周?chē)且缘顾碾p子塔足跡制作的水池。新圖片顯示出,在三層紀念館的內部將看到雙子塔的一些剩余部分。 紀念館從廣場(chǎng)延伸開(kāi)近70英尺,坐落在基巖之上,那里是原先世貿中心的基座,雙子塔的結構殘余部分現在仍可見(jiàn)到。PATH車(chē)站和自由塔構成了紀念館的邊界。但是最重要的邊界還是在西邊,那里有60英尺高的泥漿墻,也就是世貿中心倒塌后承受巨大側邊壓力的部分。 公眾將通過(guò)“Make History”在線(xiàn)活動(dòng)為紀念館捐獻展品,包括與“9.11事件”相關(guān)的圖片和故事等。此外,還有參觀(guān)預展地的觀(guān)眾留下的講述自己故事的聲音,通過(guò)特殊設計的錄音臺錄制,這將成為紀念館的永久性陳列品。
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